本周在火奴魯魯舉行的VLSI(超大規(guī)模集成電路)研討會上,三星首次分享了基于EUV技術(shù)的7nm工藝細節(jié)。
快科技 2018/06/21 17:37 柵極間距54nm 試產(chǎn) 三星公布7nm
關(guān)于我們┊聯(lián)系我們┊友情鏈接┊網(wǎng)站地圖┊內(nèi)容聯(lián)系┊獨家報道┊法律聲明
專注IT產(chǎn)業(yè)報道,IT產(chǎn)業(yè)網(wǎng) IT產(chǎn)業(yè)生態(tài)價值發(fā)現(xiàn)平臺|IT榜單|IT活動|IT峰會|IT直播
風險提示:文章內(nèi)容僅供閱讀,不構(gòu)成投資建議,請謹慎對待。
IT產(chǎn)業(yè)網(wǎng)&www.hhonghhuo.com © 2016-2024