據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道稱，世界領(lǐng)先的半導(dǎo)體技術(shù)公司三星電子公司今天宣布，其5納米FinFET工藝技術(shù)已經(jīng)完成開(kāi)發(fā)，現(xiàn)已準(zhǔn)備好向客戶提供樣品，三星也通過(guò)這一點(diǎn)再次證明了其在尖端制造市場(chǎng)的領(lǐng)導(dǎo)地位。

　　與7納米工藝相比，三星的5納米FinFET工藝技術(shù)提供了高達(dá)25%的邏輯面積效率提高。同時(shí)由于工藝改進(jìn)，其功耗降低了20%、性能提高了10%，從而使芯片能夠擁有更具創(chuàng)新性的標(biāo)準(zhǔn)單元架構(gòu)。

　　從7納米到跨越到5納米工藝，除了在功率性能區(qū)域(PPA)的數(shù)據(jù)提高之外，客戶還可以充分利用三星高度復(fù)雜的EUV技術(shù)(ExtremeUltraviolet Lithography，極紫外光刻，常稱作EUV光刻)，有助于產(chǎn)品接近性能極限。

　　5納米工藝的另一個(gè)主要優(yōu)點(diǎn)是，我們可以將所有7納米的相關(guān)知識(shí)產(chǎn)權(quán)重用到5納米工藝上。因此，7納米客戶向5納米過(guò)渡將得以大幅降低遷移成本、擁有預(yù)先經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的設(shè)計(jì)生態(tài)系統(tǒng)，從而大幅縮短其5納米產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)周期。

　　由于三星鑄造(Samsung Foundry)與其“三星高級(jí)鑄造生態(tài)系統(tǒng)”(SamsungAdvanced Foundry Ecosystem)合作伙伴之間的密切合作，自2018年第四季度以來(lái)，三星5納米產(chǎn)品就擁有了強(qiáng)大的設(shè)計(jì)基礎(chǔ)設(shè)施，包括工藝設(shè)計(jì)工具、設(shè)計(jì)方法、電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化工具和IP。此外，三星鑄造已經(jīng)開(kāi)始向客戶提供5納米多項(xiàng)目晶片服務(wù)。

　　三星電子鑄造業(yè)務(wù)執(zhí)行副總裁查理·貝耶(Charlie Bae)說(shuō)：“在成功完成5納米工藝的開(kāi)發(fā)過(guò)程中，我們已經(jīng)證明了自己在EUV技術(shù)領(lǐng)域的強(qiáng)大科研能力。為了滿足客戶對(duì)先進(jìn)工藝技術(shù)不斷增長(zhǎng)的需求，以使他們的下一代產(chǎn)品與眾不同，我們將繼續(xù)致力于加快EUV技術(shù)的批量投產(chǎn)工作。”

　　2018年10月，三星宣布將首次生產(chǎn)7納米制程工藝芯片，這是三星首個(gè)采用EUV光刻技術(shù)的產(chǎn)品。如今，該公司已經(jīng)提供了行業(yè)內(nèi)第一個(gè)基于EUV的商業(yè)樣品，并已于今年年初開(kāi)始批量投產(chǎn)7納米芯片。

　　此外，三星還在與客戶合作開(kāi)發(fā)6納米芯片，這是一種基于EUV技術(shù)的定制產(chǎn)品。

　　貝耶表示：“考慮到包括PPA和IP在內(nèi)的各種優(yōu)勢(shì)，三星基于EUV工藝的產(chǎn)品預(yù)計(jì)將對(duì)5G、人工智能、高性能計(jì)算和汽車等新的創(chuàng)新應(yīng)用產(chǎn)生很高的需求。憑借我們強(qiáng)大的技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)力，包括我們?cè)贓UV光刻領(lǐng)域的領(lǐng)先地位，三星將繼續(xù)向客戶提供最先進(jìn)的技術(shù)和解決方案。”

　　據(jù)悉，三星鑄造公司基于EUV工藝的生產(chǎn)工作已被安排在了位于韓國(guó)華雄工廠的S3生產(chǎn)線。此外，三星還將把其EUV產(chǎn)能擴(kuò)展到華雄的一條新的EUV生產(chǎn)線，該生產(chǎn)線預(yù)計(jì)將在2019年下半年完工，并于明年開(kāi)始量產(chǎn)。(騰訊科技審校/湯姆)